Shrnutí na Anyagok felületi analízisének módszerei
Anyagok Felületanalízisének Módszerei: Részletes Útmutató
Bevezetés
Az elektronmikroszkópia és az elektronspektroszkópia olyan módszerek összessége, amelyek elektronok (vagy részecskék gerjesztésének) mintákkal való kölcsönhatását használják fel képi, szerkezeti és kémiai információk megszerzésére. Ez az anyag főként a spektroszkópiai technikákat és a pásztázó elektronmikroszkópiát (SEM) tárgyalja, míg a felületanalízisről és a transzmissziós elektronmikroszkópiáról szóló részletek kimaradnak, mivel azokat máshol tárgyalják.
Definíció: Az elektronspektroszkópia olyan módszerek összessége, amelyek a minta részecske- vagy fotongerjesztéssel való kölcsönhatása során kibocsátott vagy szekunder módon keletkezett elektronok energiáját mérik a kémiai összetétel és az elektronikus szerkezet meghatározása céljából.
Főbb módszerek áttekintése
- Röntgen fotoelektron spektroszkópia (XPS / ESCA) — elemek, kémiai állapotok azonosítása és az elemösszetétel mennyiségi meghatározása a felületi rétegben.
- Ultraibolya fotoelektron spektroszkópia (UPS) — vegyértékelektronok mérése alacsony kötési energiáknál, felületérzékeny.
- Auger-elektron spektrometria (AES) — elektronátmenetek és Auger-elektronok emissziója révén keletkező spektrum, gyakran felületek lokális elemzésére.
- Pásztázó elektronmikroszkópia (SEM) — képalkotó technika, amely a mintából származó szekunder és visszavert elektronok megfigyelésén alapul.
XPS / ESCA — alapelvek és alkalmazások
Elv
- Alapja: a mintát röntgensugárzás éri, a keletkező fotoelektronok kinetikus energiával rendelkeznek, amelyből levezethető a kötési energia. A kötési energiák változásai információt szolgáltatnak az atomok kémiai környezetéről.
- A nagy felbontású XPS képes detektálni a kötési energia eltolódásait, amelyek az elektronsűrűség változásaiból adódnak a kémiai kötések kialakulásakor.
Definíció: Az XPS a fotoelektronok kinetikus energiáját méri, és ebből vezeti le a kötési energiákat, ami lehetővé teszi az elemek és oxidációs állapotuk azonosítását a felület néhány atomszintű rétegében.
Információ és analízis mélysége
- Jellemző információs mélység: körülbelül $2$ és $10$ atomszintű felületi réteg.
- Kvantitatív analízis lehetséges a csúcsintenzitások és az érzékenységi korrekciók révén.
Alkalmazások
- Fémek, félvezetők, polimerek, üveg, kerámia felületei
- Katalizátorok, korrózió, elektronika, nanoanyagok, biokompatibilis anyagok
Mélységi profil
- Felületi maratás (argonionokkal)
- Előny: analízis ~1 \mu m mélységig
- Hátrány: roncsoló, felületi károsodás
- Szögfelbontású XPS (AR-XPS)
- Nem roncsoló, mérés körülbelül $10\ \mathrm{nm}$ mélységig
- Az elektronok analizátorba történő belépési szögének csökkentése csökkenti az információs mélységet
Tudtad, hogy az XPS-ben a kötési energiák változásai nagyságrendileg $0{.}1\text{–}2\ \mathrm{eV}$ nagyságúak lehetnek, és segítenek megkülönböztetni ugyanazon elem különböző oxidációs állapotait?
UPS — ultraibolya fotoelektron spektroszkópia
Elv
- A mintát ultraibolya sugárzással érik, melynek hatására valenciaelektronok lépnek ki.
- Az UPS-ben a tipikus kötési energiák legfeljebb $40\ \mathrm{eV}$, az alacsony energiák nagyobb felületi érzékenységet jelentenek.
Definíció: Az UPS egy olyan módszer, amely az UV gerjesztés hatására kilépő valenciaelektronok energiáját méri, és alkalmas a vegyértéksáv-szerkezet és a felületi elektronsűrűség vizsgálatára.
Tulajdonságok és felhasználás
- Jobb spektrumfelbontás nagyon alacsony kötési energiáknál, mint az XPS-nél.
- Molekulapálya-modelleket használnak az értelmezéshez, és megfigyelhetők vibrációs struktúrák.
- Molekulák esetén jellegzetes sávok különböztethetők meg, és összehasonlíthatók adatbázisokkal a molekulák azonosításához.
- ARUPS (szögfelbontású UPS) lehetővé teszi az elektronok eloszlásának meghatározását az emisszió iránya szerint — ez fontos például a magas hőmérsékletű szupravezetők elektronszerkezetének vizsgálatához.
Tudtad, hogy az UPS gyakran használ He(I) sugárzást $21{.
Already have an account? Sign in
Elektronmikroszkópia és spektroszkópia
Klíčové pojmy: XPS identifikuje prvky a oxidační stavy v povrchových 2–10 vrstvách, AR-XPS umožňuje nedestruktivní hloubkový profil ~10 nm změnou úhlu, UPS měří valenční elektrony do $40\ \mathrm{eV}$ a je vysoce povrchově citlivá, ARUPS zjišťuje úhlovou distribuci emisí elektronů, AES detekuje Augerovy elektrony pro lokální chemickou analýzu, SEM používá sekundární a zadní elektrony pro povrchový obraz, Pro SEM běžné napětí $1$–$5\ \mathrm{kV}$ a často je nutné pokovení vzorku, Kombinace SEM + spektroskopie (XPS/UPS/AES) dává morfologii i chemii